Suherlianti, Ikfa Rika Elma (2024) Optimasi lama waktu sputtering dalam pembentukan lapisan bloking layer tio2 pada dye sensitized solan cell / Ikfa Rika ELma Suherlianti</p>. Diploma thesis, Universitas Negeri Malang.
Full text not available from this repository.Abstract
Pada penelitian ini telah dilakukan optimasi pelapisan blocking layer (BL) TiO2 menggunakan DC sputtering untuk meningkatkan performa DSSC. Blocking layer TiO2 dibuat dengan variasi waktu sputtering (30 dan 60 menit). Berdasarkan hasil karakterisasi XRD dan SEM menunjukkan semakin meningkat waktu sputtering diperoleh ukuran kristal semakin kecil sehingga meningkatkan luas permukaan. Hasil UV-Vis menunjukkan bahwa peningkatan waktu sputtering dapat menurunkan band gap menjadi 3 27 eV. Pada penelitian ini diperoleh peningkatan efisiensi DSSC dari 2 87% menjadi 5 93%. Peningkatan efisiensi ini menunjukkan bahwa BL TiO2 dapat mengurangi rekombinasi yang ditunjukkan dengan peningkatan lifetime elektron. Hal tersebut diperkuat dengan hasil EIS yang menujukkan penggunaan blocking layer TiO2 meningkatkan lifetime elektron dari 6 39 ms menjadi 8 02 m
| Item Type: | Thesis (Diploma) |
|---|---|
| Divisions: | Fakultas Matematika dan IPA (FMIPA) > Departemen Fisika (FIS) > S1 Fisika |
| Depositing User: | library UM |
| Date Deposited: | 24 Mar 2024 04:29 |
| Last Modified: | 09 Sep 2024 03:00 |
| URI: | http://repository.um.ac.id/id/eprint/394734 |
Actions (login required)
 |
View Item |