Pengaruh ketebalan film tipis fotokatalis TiO2 pada substrat kaca terhadap nilai ansirbsi, ukuran butir, sifat hidrofilik dan anti fogging / Ifa Kumala Rohmatul Laila - Repositori Universitas Negeri Malang

Pengaruh ketebalan film tipis fotokatalis TiO2 pada substrat kaca terhadap nilai ansirbsi, ukuran butir, sifat hidrofilik dan anti fogging / Ifa Kumala Rohmatul Laila

Laila, Ifa Kumala Rohmatul (2015) Pengaruh ketebalan film tipis fotokatalis TiO2 pada substrat kaca terhadap nilai ansirbsi, ukuran butir, sifat hidrofilik dan anti fogging / Ifa Kumala Rohmatul Laila. Diploma thesis, Universitas Negeri Malang.

Full text not available from this repository.

Abstract

ABSTRAK Laila Ifa K.R. 2015. Pengaruh Ketebalan Film Tipis TiO2 pada Substrat Kaca Terhadap Nilai Absorbsi Ukuran Butir Sifat Hidrofilik dan Anti Fogging. Skripsi Jurusan Fisika Fakultas Matematika dan Ilmu Pengetahuan Alam Universitas Negeri Malang. Pembimbing (I) Nandang Mufti S.Si M.T Ph.D (II) Dra. Hartatiek M.Si. Kata Kunci TiO_2 (Titanium Dioksida) Ketebalan Film Tipis Absorbsi Ukuran Butir Hidrofilik Anti Fogging TiO2 (Titanium Dioksida) adalah contoh material semikonduktor menjadi salah satu yang sangat ekstensif untuk dipelajari dalam penggunaan film tipis. Salah satu aplikasi film tipis TiO2 adalah dalam bidang fotokatalisis. Fotokatalisis ini banyak diaplikasikan dalam kehidupan setelah ditemukannya sifat hidrofilik pada permukaan film tipis TiO2 maka aplikasi ini terus berkembang dan diantaranya adalah untuk anti fogging. Film tipis TiO2 yang ditumbuhkan diatas substrat kaca bertujuan untuk mengetahui pengaruh ketebalan film tipis TiO2 terhadap nilai absorbsi ukuran butir sifat hidrofilik dan anti fogging. Penumbuhan film tipis TiO2 menggunakan metode sol-gel spin coating. Raw material yang digunakan adalah TiCl4 99% etanol etilen glikol dan PVA yang dilarutkan kemudian distirer dengan kecepatan 800 rpm pada suhu ruang selama 60 menit sehingga terbentuk gel. Gel kemudian diteteskan pada substrat kaca yang diset pada alat spinner dan diputar dengan kecepatan 1500 rpm selama 10 detik. Penumbuhan film tipis TiO2 dilakukan dengan variasi 1 kali 2 kali dan 3 kali pelapisan dimana setiap pelapisan dilakukan pemanasan suhu 100oC kemudian dianneling untuk membentuk struktur kristal pada suhu 550oC selama 1 jam. Film tipis yang berhasil ditumbuhkan dikarakterisasi menggunakan X-Ray Difraction (XRD) Spektroftometer UV-Vis Scanning Electron Microscope (SEM) uji sifat hidrofilik dan anti fogging. Hasil uji X-Ray Diffraction (XRD) memperlihatkan fasa yang terbentuk adalah anatase pada bidang kristal 101. Hasil uji citra scanning electron microscopy (SEM) menunjukkan film tipis TiO2 mempunyai permukaan yang homogen dengan ukuran butir 235 nm 179 nm dan 137 nm serta nilai ketebalan dari masing-masing film tipis adalah 3 33 5 20 . Karakterisasi dari Spektrofotometer UV-Vis menunjukkan nilai absorbsi terhadap panjang gelombang sinar tampak menunjukkan bahwa dengan bertambahnya ketebalan film maka tingkat absorbsi semakin tinggi dengan nilai bandgap film tipis yang ditentukan dengan metode Tuoc Plot sekitar 3 30 eV 3 33 eV dan 3 33 eV. Semakin bertambahnya ketebalan menyebabkan film bersifat hidrofilik dan dapat digunakan sebagai anti fogging. . .

Item Type: Thesis (Diploma)
Subjects: Q Science > QC Physics
Divisions: Fakultas Matematika dan IPA (FMIPA) > Departemen Fisika (FIS) > S1 Fisika
Depositing User: library UM
Date Deposited: 16 Jun 2015 04:29
Last Modified: 09 Sep 2015 03:00
URI: http://repository.um.ac.id/id/eprint/20725

Actions (login required)

View Item View Item