Sa'diyah, Hikmatus (2012) Pengaruh ketebalan lapisan terhadap pola interferensi pada film tipis ZnO menggunakan interferometer Michelson / Hikmatus Sa'diyah. Diploma thesis, Universitas Negeri Malang.
Full text not available from this repository.Abstract
Kata Kunci Ketebalan lapisan pola interferensi film tipis ZnO Interferometer Michelson Material ZnO merupakan salah satu jenis semikonduktor yang memiliki sifat mekanik optik dan elektrik yang baik. Selain itu lapisan tipis logam oksida juga memiliki aplikasi yang luas antara lain sebagai bahan pembuatan sensor gas sel surya hybrid LED elektroda Surface Acoustic Wafe (SAW) alat optik-akustik pandu gelombang dan efektif sebagai lapisan penghalang (antirefleksi) pada sel fotovoltaik. Penelitian ini bertujuan untuk menghasilkan film tipis ZnO dengan ketebalan pada orde mikrometer sampai nanometer agar bisa diaplikasikan sebagai lapisan antirefleksi pada sel fotovoltaik. Selain itu penelitian ini bertujuan untuk mengetahui hubungan antara ketebalan lapisan dengan pola interferensi pada film tipis ZnO. Film tipis ZnO ditumbuhkan diatas substrat kaca dengan tebal 1 mm. Film tipis ZnO ditumbuhkan dengan memvariasi konsentrasi ethanol sebagai pelarut yaitu dengan cara menguapkan ZnO koloid yang telah dibuat pada suhu titik didih ethanol yaitu 78o. Kekentalan ZnO koloid sangat berpengaruh pada tebal lapisan tipis ZnO yang dibuat. Pelapisan ZnO koloid pada substrat kaca ini menggunakan metode dan perlakuan yang sama yaitu menggunakan metode spin couting dengan putaran 1050 rpm dan waktu 2 menit. Film tipis ZnO yang dibuat diukur tebal lapisannya menggunakan Ellipsometer dan Interferometer Michelson kemudian hasilnya dibandingkan. Pada penelitian ini selain digunakan untuk mengukur tebal lapisan tipis ZnO Interferometer Michelson juga digunakan untuk mengetahui gejala interferensi yang terjadi jika ketebalan lapisan film tipis ZnO berbeda. Cahaya yang digunakan pada interferometer adalah sinar laser He-Ne dengan 955 632 8nm dengan sudut datang laser He-Ne (kemiringan sampel) sebesar 12o. Hasil penelitian menunjukkan bahwa terdapat jumlah perubahan frinji akibat bahan transparan ZnO diputar sebesar 981 . Hal tersebut menunjukkan semakin besar sudut datang laser He-Ne ( 981 ) maka semakin besar pula jumlah perubahan frinji. Dari hasil penelitian ini didapatkan tebal lapisan tipis dari ZnO sebesar 18 6 956 m 47 1 956 m dan 85 2 956 m menggunakan Ellipsometer serta didapatkan tebal sebesar 18 36 956 m 47 08 956 m dan 85 14 956 m pengukuran menggunakan Interferometer Michelson. Tebal lapisan film tipis ZnO tersebut berpengaruh terhadap pola interferensi yang terjadi hal tersebut terlihat dari jarak antar frinji dan jumlah frinji yang dihasilkan saat sampel divariasi ketebalannya. Jika sampel yang digunakan semakin besar tebal lapisannya maka jumlah frinji yang dihasilkan juga semakin banyak dan sebaliknya jika sampel yang digunakan semakin kecil ketebalannya maka jumlah frinji yang dihasilkan juga semakin sedikit. Hal itu disebabkan oleh panjang lintasan yang dilewati sinar Laser He-Ne.
| Item Type: | Thesis (Diploma) |
|---|---|
| Subjects: | Q Science > QC Physics |
| Divisions: | Fakultas Matematika dan IPA (FMIPA) > Departemen Fisika (FIS) > S1 Fisika |
| Depositing User: | library UM |
| Date Deposited: | 27 Aug 2012 04:29 |
| Last Modified: | 09 Sep 2012 03:00 |
| URI: | http://repository.um.ac.id/id/eprint/20543 |
Actions (login required)
 |
View Item |